专注技术创新与用户需求的有机结合，迪史洁干冰雪花清洗设备重视技术创新的力量，积极收集用户不同需求。公司以二氧化碳雪花设备为主导产品，产品销售于全国地区，在市场占有的份额，赢得了广大芯片行业的青睐。我们始终一如既往地以为客户提供满意服务为宗旨，为更多用户提供更多高品质高质量的二氧化碳雪花设备。

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二氧化碳清洗CO2雪花清洗的主要清洗剂是固体二氧化碳颗粒，或干冰，有时被称为“雪”CO2雪花清洗，干冰雪花清洗它与表面接触后升华，不留下清洗剂残留物来管理。吹气系统的清洁力不如二氧化碳清洁，因此无法清除表面较重的灰尘和污染物。任何残留在表面的污染物都会地影响油漆和涂层的附着力。干冰雪花清洗CO2清洁可去除表面的所有污染物，适当的附着力和较少的不合格零件。

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干冰雪花清洗二氧化碳清洗利用各种喷雾配置，与现有机器人无缝配合，提供零件的完整覆盖，高质量的表面处理。可通过结合添加剂注入来改变清洁喷剂的化学性质来实现额外的清洁。与大气等离子体和电离空气去静电系统结合使用的CO2清洗可提供额外的表面处理能力。

迪史洁拥有在的成熟的精密清洁系统，以及拥有一些挑战性的应用。在很多行业得到了利用，我们的公司雪花清洗几乎满足了全国对某些大批量产品的需求。

DSJet一直走在这条清洗的前列，不断提供的干冰雪清洁产品，这些产品对环境友好，不使用去离子水、化学物质和废物。绿色环保。

迪史洁干冰雪花清洗设备自创立之日起，就十分重视服务体系的建立和对服务团队的培养。经过多年的发展，迪史洁干冰雪花清洗设备已经拥有的服务体系，为客户提供周全有效的服务和应用支持。我公司的二氧化碳雪花设备主要采用;厂家的方式销售，通过陆运;空运等方式把产品送到客户手中。我们不断，追求，愿能与客户及合作伙伴共同成长。

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首先感谢您在百忙之中审阅我，当您打开这个文件时，您将开始对我们产品的能力进行评估，对我们的经历进行阅读；希望当您关闭这个信息时，我能够契合您的要求，解决您的问题

ITO薄膜具有高透射率、低电阻率的特性，在显示器件中常用作透明电极。ITO玻璃基板表面的清洁程度，直接影响到液晶显示器件生产的成品率；对于OLED器件，lTO薄膜表面状态的影响更大。其清洗方法及表面处理工艺都将影响到ITO薄膜的特性，如化学组成、ITO表面的功函数、ITO薄膜和有机层的接触特性等，进而影响OLED的性能。因此ITO玻璃基板的清洗，要求能除去微米量级的粒子和所有的有机、无机化学物质及污迹、水迹等污染物，并要求清洗后的ITO薄膜具有良好的亲和性。

目前经常用于ITO玻璃表面处理的方法有：化学方法(酸或碱处理)和物理方法(机械抛光、热处理、氧等离子体处理、氧辉光放电及臭氧环境紫外线处理等)。本文采用的是干冰颗粒喷射清洗技术。1986年提出将此方法用于表面清洁。之后W.Gerristead等人对2英寸单晶硅基片进行干冰颗粒喷射清洗，清洗前后硅片上的杂质颗粒由538000／cm2减少到342／cm2，减少程度达99.9％；经x光电子能谱(XPS)测量，清洗前后的基片表面上碳氢化台物的含量降低了25％～30％。此外，干冰颗粒喷射清洗法用于金属、陶瓷、光学器件、聚合体表面、CMOS图像传感器也取得了很好的清洗效果

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二氧化碳已被广泛用于清洁玻璃和光学表面。这包括在涂覆光学涂层之前去除污染物，在组装之前或之后清洁表面，以及许多其他应用。我们用二氧化碳雪清洁表面。表面成分，如XPS所发现的和下面给出的，以及光学检查，表明有效清洁。从视觉上看，它们是“干净的”，这一点通过亮场和暗场图像的检查得到了验证。

超临界流体二氧化碳(CO2雪花清洗系统.

无论使用哪种方法，清洗都取决于液体二氧化碳溶剂的性质或冲击固相的能量和动量传递，或溶剂性质和动量或能量传递的组合。颗粒系统依靠宏观颗粒的高冲击速度相关的热机械冲击应力来去除污染物，这是一个动量和能量传递过程。雪喷雾依赖于高速微观雪粒子的动量传递和液态一氧化碳的溶解作用的结合。液态二氧化碳洗涤系统依赖于迪史洁 液相溶剂特性。后，超临界流体系统完全依赖二氧化碳的超临界流体特性。

重要的是，迪史洁干冰雪花清洗应用；CO2雪花表面处理、CO2雪花颗粒去除、CO2雪花烟灰去除、CO2雪花残渣去除、CO2雪花脱脂、检查前清洁和烧结金属清洁。随着我们进一了解我们的能力，我们将继续用新信息更新此列表。

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迪史洁（上海）清洗设备有限公司主张人尽其才，才尽其用，员工各尽所能，实现与企业共同发展。公司坚持以信誉为主，坚守细水长流、稳定发展的经营宗旨，以事业留人、感情留人、文化留人、永续关怀为人才管理战略。确立美好愿景，致力于打造清洗清理设备行业内成功的二氧化碳雪花设备供应企业。本公司坚信芯片行业长期是公司发展的源泉，立足客户，坚持以市场为导向，以的售后服务为承诺。